按照這四個操作要點可減少光化學反應儀損壞率-raybet雷竞技导航

按照這四個操作要點可減少光化學反應儀損壞率

　　光化學反應可引起化合、分解、電離、氧化還原等過程。主要可分為(wei) 兩(liang) 類：一類是光合作用，如綠色植物使二氧化碳和水在日光照射下，借植物葉綠素的幫助，吸收光能，合成碳水化合物。另一類是光分解作用，如高層大氣中分子氧吸收紫外線分解為(wei) 原子氧;染料在空氣中的褪色，膠片的感光作用等。

　　光化學反應儀(yi) 主要用於(yu) 研究氣相或液相介質、固定或流動體(ti) 係、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產(chan) 物和自由基的樣品，測定反應動力學常數，測定量子產(chan) 率等功能，廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。

　　光化學反應儀(yi) 運用過程中假如不留意或不按操作規矩運用或保存就極易損壞。哪些的方法可以減少它的損壞率呢？請看下麵。

　　1、新設備要按照要求進行使用，以避免加工應力損壞

　　因為(wei) 釜體(ti) 在加工進程中，采用卷筒、衝(chong) 壓、焊接等加工工藝會(hui) 在釜體(ti) 存留很多的內(nei) 應力，這些應力在反應前應完全消失，如消弭不完全會(hui) 引起反響爆瓷。這種損壞常常發作在投入運用後的頭三個(ge) 月。所以對胚體(ti) 中止熱處置或時效處置能避免爆瓷。

　　2、操作時不要攪拌太快，以避免靜電穿刺

　　因為(wei) 光化學反應儀(yi) 內(nei) 攪拌帶有懸浮物的液體(ti) ，懸浮物本身及與(yu) 反應劇烈的磨擦，易在釜內(nei) 發生很多的靜電荷，高靜電荷會(hui) 對反應發作劇烈的穿刺作用，從(cong) 而導致反應點蝕，因此在運用時注意攪拌速度不要太快。

　　3、使用中不要磕碰，以避免機械損壞

　　因為(wei) 光化學反應儀(yi) 抗衝(chong) 擊力十分差，金屬或硬物的碰擊均會(hui) 導致反響破損。因此在運用時要免金屬或硬物進入釜內(nei) ，在遇到堵料也隻能用較軟的塑料棒進行疏通。檢修時蓋好鍋蓋，謹防焊渣凝結瓷麵出現小坑或爆瓷。

　　4、注意保持光化學反應儀(yi) 的清潔，以避免析氫腐蝕

　　夾套在使用一段時間後會(hui) 生鏽，所以要用酸性除垢劑清除冷卻，當組成一定的動力時，反應就會(hui) 發生分裂。