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自動變角度光譜橢偏儀(光伏專用)

橢偏儀(yi) 橢偏儀(yi) CME-MSE01-PV用於(yu) 測量和分析光伏領域中多層納米薄膜的層構參數(如,厚度)和物理參數(如,折射率n、消光係數k),典型樣品包括:絨麵單晶和多晶太陽電池上的單層減反膜(如SiNx,SiO2,TiO2,Al2O3等)和多層減反膜(如,SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx  /Al2O3 等),以及薄膜太陽電池中的多層納米薄膜。

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自動變角度光譜橢偏儀(光伏專用)
型號:

CME

產地:

中國——北京

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產(chan) 品詳情

CME-MSE01-PV是針對光伏太陽能電池研發和質量控製領域推出的高性能光譜橢偏儀(yi) 。

CME-MSE01-PV用於(yu) 測量和分析光伏領域中多層納米薄膜的層構參數(如,厚度)和物理參數(如,折射率n、消光係數k),典型樣品包括:絨麵單晶和多晶太陽電池上的單層減反膜(如SiNx,SiO2,TiO2,Al2O3等)和多層減反膜(如,SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx  /Al2O3 等),以及薄膜太陽電池中的多層納米薄膜。

特點:

粗糙絨麵納米薄膜的高靈敏測量

· 

先進的光能量增強技術、高信噪比的探測技術以及高信噪比的微弱信號處理方法,實現了對粗糙表麵散射為(wei) 主和極低反射率為(wei) 特征的絨麵太陽電池表麵鍍層的高靈敏檢測。

晶體矽多層減反膜檢測 

專(zhuan) 門針對多層薄膜檢測而設計,可滿足晶體(ti) 矽太陽能電池領域中的雙層膜,如(SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx  /Al2O3等)的檢測。

秒級的快速測量

國際先進的快速橢偏采樣方法、***的關(guan) 鍵部件、自動化的測量軟件,在保證高精度和準確度的同時,可在10秒內(nei) 快速完成一次測量。

一鍵式儀器操作

對於(yu) 常規操作,隻需鼠標點擊一個(ge) 按鈕即可完成複雜的測量、建模、擬合和分析過程,豐(feng) 富的模型庫和材料庫也同時方便了用戶的***操作需求。

應用:

CME-MSE01-PV可用於(yu) 測量絨麵單晶或多晶矽太陽電池表麵上納米薄膜的厚度、折射率n和消光係數k,包括:單層減反膜(如, SiNx, TiO2,SiO2,A12O3等)、雙層納米薄膜(如,SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx  /Al2O3等),以及多層納米薄膜。

CME-MSE01-PV的應用也覆蓋了傳(chuan) 統光譜橢偏儀(yi) 所測量的光麵基底上的單層和多層納米薄膜,典型應用包括:半導體(ti) (如:介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、矽、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等)、平板顯示(TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等)、功能性塗料:(增透型、自清潔型、電致變色型、鏡麵性光學塗層,以及高分子、油類、Al2O3表麵鍍層和處理等)、生物和化學工程(有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表麵改性處理、液體(ti) 等)等。

技術指標:

項目

技術指標

光譜範圍

240nm-930nm(絨麵測量時為(wei) 350-850nm)

單次測量時間

10s,取決(jue) 於(yu) 測量模式

膜厚測量重複性(1)

0.05nm (對於(yu) 平麵Si基底上100nm的SiO2膜層)

折射率精度(1)

1x10-3 (對於(yu) 平麵Si基底上100nm的SiO2膜層)

入射角度

40°-90°自動調節

光學結構

PSCA(Δ在0°或180°附近時也具有極高的準確度)

樣品台尺寸

一體(ti) 化樣品台輕鬆變換可測量單晶或多晶樣品

兼容125*125mm和156*156mm的太陽能電池樣品

樣品方位調整

Z軸高度調節:±6.5mm

二維俯仰調節:±4°

樣品對準:光學自準直顯微和望遠對準係統

軟件

•多語言界麵切換

•太陽能電池樣品預設項目供快捷操作使用

•安全的權限管理模式(管理員、操作員)

•方便的材料數據庫以及多種色散模型庫

•豐(feng) 富的模型數據庫

注:(1)測量重複性:是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次所計算的標準差


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產品詳情

CME-MSE01-PV是針對光伏太陽能電池研發和質量控製領域推出的高性能光譜橢偏儀(yi) 。

CME-MSE01-PV用於(yu) 測量和分析光伏領域中多層納米薄膜的層構參數(如,厚度)和物理參數(如,折射率n、消光係數k),典型樣品包括:絨麵單晶和多晶太陽電池上的單層減反膜(如SiNx,SiO2,TiO2,Al2O3等)和多層減反膜(如,SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx  /Al2O3 等),以及薄膜太陽電池中的多層納米薄膜。

特點:

粗糙絨麵納米薄膜的高靈敏測量

· 

先進的光能量增強技術、高信噪比的探測技術以及高信噪比的微弱信號處理方法,實現了對粗糙表麵散射為(wei) 主和極低反射率為(wei) 特征的絨麵太陽電池表麵鍍層的高靈敏檢測。

晶體矽多層減反膜檢測 

專(zhuan) 門針對多層薄膜檢測而設計,可滿足晶體(ti) 矽太陽能電池領域中的雙層膜,如(SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx  /Al2O3等)的檢測。

秒級的快速測量

國際先進的快速橢偏采樣方法、***的關(guan) 鍵部件、自動化的測量軟件,在保證高精度和準確度的同時,可在10秒內(nei) 快速完成一次測量。

一鍵式儀器操作

對於(yu) 常規操作,隻需鼠標點擊一個(ge) 按鈕即可完成複雜的測量、建模、擬合和分析過程,豐(feng) 富的模型庫和材料庫也同時方便了用戶的***操作需求。

應用:

CME-MSE01-PV可用於(yu) 測量絨麵單晶或多晶矽太陽電池表麵上納米薄膜的厚度、折射率n和消光係數k,包括:單層減反膜(如, SiNx, TiO2,SiO2,A12O3等)、雙層納米薄膜(如,SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx  /Al2O3等),以及多層納米薄膜。

CME-MSE01-PV的應用也覆蓋了傳(chuan) 統光譜橢偏儀(yi) 所測量的光麵基底上的單層和多層納米薄膜,典型應用包括:半導體(ti) (如:介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、矽、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等)、平板顯示(TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等)、功能性塗料:(增透型、自清潔型、電致變色型、鏡麵性光學塗層,以及高分子、油類、Al2O3表麵鍍層和處理等)、生物和化學工程(有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表麵改性處理、液體(ti) 等)等。

技術指標:

項目

技術指標

光譜範圍

240nm-930nm(絨麵測量時為(wei) 350-850nm)

單次測量時間

10s,取決(jue) 於(yu) 測量模式

膜厚測量重複性(1)

0.05nm (對於(yu) 平麵Si基底上100nm的SiO2膜層)

折射率精度(1)

1x10-3 (對於(yu) 平麵Si基底上100nm的SiO2膜層)

入射角度

40°-90°自動調節

光學結構

PSCA(Δ在0°或180°附近時也具有極高的準確度)

樣品台尺寸

一體(ti) 化樣品台輕鬆變換可測量單晶或多晶樣品

兼容125*125mm和156*156mm的太陽能電池樣品

樣品方位調整

Z軸高度調節:±6.5mm

二維俯仰調節:±4°

樣品對準:光學自準直顯微和望遠對準係統

軟件

•多語言界麵切換

•太陽能電池樣品預設項目供快捷操作使用

•安全的權限管理模式(管理員、操作員)

•方便的材料數據庫以及多種色散模型庫

•豐(feng) 富的模型數據庫

注:(1)測量重複性:是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次所計算的標準差


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橢偏儀橢偏儀CME-MSE01-PV用於測量和分析光伏領域中多層納米薄膜的層構參數(如,厚度)和物理參數(如,折射率n、消光係數k),典型樣品包括:絨麵單晶和多晶太陽電池上的單層減反膜(如SiNx,SiO2,TiO2,Al2O3等)和多層減反膜(如,SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx  /Al2O3 等),以及薄膜太陽電池中的多層納米薄膜。
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